F-EPT系列F-EPT30型
●最適合於液晶、PDP、有機EL機等基板用狹縫塗佈機對平均塗抹的要求。
●使用流體:光刻膠、純水、藥液(可燃性物質不可)※選定,導入時,請事前聯絡、諮詢本公司
| 最大吐出壓力 | 吐出量ml | 吐出. 輸入流量ml/s |
| |
| 0.05MPa | 3~30 | 0.05~3 |
F-EPT系列F-EPT60型
●最適合於液晶、PDP、有機EL機等基板用狹縫塗佈機對平均塗抹的要求。
●使用流體:光刻膠、純水、藥液(可燃性物質不可)※選定,導入時,請事前聯絡、諮詢本公司
| 最大吐出壓力 | 吐出量ml | 吐出. 輸入流量ml/s |
| |
| 0.05MPa | 6~60 | 0.05~5 |
F-EPT系列F-EPT100型
●最適合於液晶、PDP、有機EL機等基板用狹縫塗佈機對平均塗抹的要求。
●使用流體:光刻膠、純水、藥液(可燃性物質不可)※選定,導入時,請事前聯絡、諮詢本公司
| 最大吐出壓力 | 吐出量ml | 吐出. 輸入流量ml/s |
| |
| 0.05MPa | 10~100 | 0.05~5 |
F-EPT系列F-EPT200型
●最適合於液晶、PDP、有機EL機等基板用狹縫塗佈機對平均塗抹的要求。
●使用流體:光刻膠、純水、藥液(可燃性物質不可)※選定,導入時,請事前聯絡、諮詢本公司
| 最大吐出壓力 | 吐出量ml | 吐出. 輸入流量ml/s |
| |
| 0.05MPa | 20~200 | 0.1~15 |
F-EPT系列F-EPT300型
●最適合於液晶、PDP、有機EL機等基板用狹縫塗佈機對平均塗抹的要求。
●使用流體:光刻膠、純水、藥液(可燃性物質不可)※選定,導入時,請事前聯絡、諮詢本公司
| 最大吐出壓力 | 吐出量ml | 吐出. 輸入流量ml/s |
| |
| 0.05MPa | 30~300 | 0.1~12 |